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避免原位清洗(CIP)过程中发生原材料和能源浪费

CIP清洗工艺的优化方法多种多样。小改变就能产生深远影响。

食品行业的主流做法之一是安装在线过程测量仪表,控制清洗温度、流量和清洗液浓度。使用光学测量仪表系统检测回流管路中介质的快速相变,优化CIP系统运行,实现原材料和能源节约。基于浓度测量结果确定液体的污染程度。

CIP系统需要使用大量水、化学药剂和能源。在食品饮料厂中,清洗工序用时约占工厂总停车时间的15…20%。不同子行业(乳制品、啤酒厂等)及不同行业应用略有差异。据统计,CIP清洗系统的平均能耗约占工厂总能源用量的10%。为了确保卫生合规,CIP清洗的用水量约占全厂水使用量的15%

食品和饮料制造商习惯基于时间控制清洗系统工作。在当前资源短缺和成本上升的情况下,现在是仔细研究CIP系统并实施优化措施的理想时机。在线过程测量为食品制造商提供了新的选择,从定时清洗模式转变为选择使用实时监测系统。此类系统保证高清洗效率,能够降低运营成本,减少生产浪费。

原位清洗过程中使用的测量仪表 ©Endress+Hauser

优化相分离过程

从盲猜到基于数据明智决策

清楚知晓管道内部的产品状况,拒绝盲猜。采用创新技术的传感器能够准确识别每个CIP工序的完成时间,确定下一个工序的开始时间,从而减小产品损耗,规避介质混合风险。

安装光学过程传感器优化控制相分离过程。快速的反应时间和实时数据可减少水或化学品的消耗,并将产品损失降至最低,从而节省成本。 

投加正确剂量的清洗液,实现30%的成本节约;安装Endress+Hauser的光学测量仪表,高效监测相分离过程

选择相分离监测仪表

安装在储液罐上的Liquitrend QMW43 ©Endress+Hauser

连续黏附监测

紧凑型仪表连续测量黏附层厚度和电导率

我们提供多参数测量仪表,监测并精准识别生产过程中生成的生物膜厚度。通过HACCP危害分析确定传感器的合适安装位置。传感器基于实际黏附厚度精准确定下一次清洗时间,并显示CIP清洗效率。

选择黏附监测仪表

Endress+Hauser专门研发Liquitrend QMW43,帮助用户保证产品安全,提高产品质量,提高工厂可用性。

针对性优化CIP清洗,助力工厂提高生产力

案例介绍我们的Liquitrend QMW43为您带来了新机会,除了能够在CIP回流管路中测量电导率和浊度等传统参数,还能优化清洗时间。

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除了专用仪表,其他测量仪表同样有助于优化CIP清洗工艺

我们为用户提供型号齐全的仪表组合,涵盖液位、温度和流量,到压力和浓度测量,助力高效清洗过程。

与专家探讨您的挑战

Endress+Hauser专家随时随地为您提供支持。

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