光学分析_气体分析仪_连续排放监测_粉尘测量_恩德斯豪斯

类别

TDLAS和QF分析仪拉曼光谱分析系统排放监测解决方案颗粒测量设备数字分析仪解决方案过程气体分析仪空气质量测量装置烟雾探测器视距测量仪超高探测器

过滤

简易产品
轻松执行仪表选型、安装和操作

仪表技术性能

选型便捷程度

什么是FLEX产品选型

标准产品
测量可靠、坚固耐用、低维护需求

仪表技术性能

选型便捷程度

什么是FLEX产品选型

高端产品
功能丰富，适用范围广

仪表技术性能

选型便捷程度

什么是FLEX产品选型

定制产品
专门针对严苛工况设计

仪表技术性能

选型便捷程度

特殊选型

什么是FLEX产品选型

FLEX产品选型	仪表技术性能	选型便捷程度
F L E X Fundamental选型完美胜任基本测量任务	仪表技术性能	选型便捷程度
F L E X Lean选型轻松应对关键工艺的测量挑战	仪表技术性能	选型便捷程度
F L E X Extended选型创新技术助力工艺流程优化	仪表技术性能	选型便捷程度
F L E X Xpert选型满足严苛工况的特殊测量要求	仪表技术性能	选型便捷程度特殊选型

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ENERSIC600 过程气体分析仪

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用于可靠计量交接气体分析和能源管理的气相色谱仪

Measured variables Gas components, calorific value, density, Wobbe index, molar mass, compressibility

Measuring medium Natural gas, biogas, air, H2, O2, N2

Analysis time ≥45 seconds

product picture of the emission monitoring solution GM32

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GM32

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即使在防爆区域内也可直接快速检测腐蚀性气体

测量组分 NO, NO2, NH3, SO2

工艺过程温度 ≤ +650 ℃
根据要求提供高温版本

环境温度 –20 °C ... +55 °C
温度变化最大为 ± 10 ℃/h

防护等级标准型：IP 65 , IP 69K
防爆型：IP 65

product picture of the emission monitoring solution Combiprobe CP100

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Combiprobe CP100

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粉尘，体积流量，压力和温度的组合测量

测量值粉尘浓度（根据重量对比测量）, 气体流速, 气体压力,气体温度

工艺过程温度 –20 °C ... +200 °C

工艺过程压力 –70 hPa ... 10 hPa

product picture of the digital analyzer solution Monitoring Box

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Monitoring Box

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状态和应用数据的分析处理

支持的产品 FLOWSIC200, GM32, MCS100FT, MCS200HW, MCS300P, MERCEM300Z, VICOTEC320, VICOTEC450, VISIC100SF, VISIC50SF, DUSTHUNTER SB100, DUSTHUNTER SP100, FLOWSIC100, MARSIC300, VICOTEC410, GMS800 (DEFOR + OXOR)

数据输出 Monitoring Box frontend
Alerts in the dashboard
Notifications via email
Data export (CSV)
Data integration into foreign systems (API)

托管 Off-premise: https://monitoringbox.endress.com
Industrial PC, other solutions on request

合同类型 SaaS (Software as a Service)

product picture of the particle measuring device DUSTHUNTER SP30

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DUSTHUNTER SP30

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智能测量，削减成本

工艺过程温度 -40 °C ... +220 °C

测量范围散射光强度: 0 ... 7.5 mg/m3 / 0 ... 3,000 mg/m3
测量范围可自由选择；九种预设测量范围 (0 ～
7.5/15/45/75/150/225/375/1,000/3,000 SI)

一致性 TÜV 型式测试
中国 CPA 认证

product picture of the emission monitoring solution MARSIC300

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MARSIC300

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正确的路线保证了测量的安全性

测量值 CO2, SO2, NO, NO2, CO, NH3, H2O, CH4

环境温度 0 °C ... +50 °C
（可选配空调，带空调环境温度可达到55℃）

符合性声明 MARPOL 附则 VI 及 2008 NTC – MEPC.177 (58)
废气净化系统指南 - MEPC.184(68)
SCR 脱硝系统指南 - MEPC.198 (62)
DNV GL 标准型认证 (2012)
IACS E10 和主要船级社规则

product picture of the gas analyzer MCS200HW

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MCS200HW

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用于烟气监控的可靠测量技术

Measured variables CH4, CO, CO2, Corg, HCl, H2O, NH3, NO, NO2, N2O, O2, SO2

Ambient temperature range +5 °C ... +50 °C

Process temperature ≤ +550 °C

product picture of the process gas analyzer MCS300P

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MCS300P

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可同时对多达6种气体组分进行的过程分析

测量范围 60 多个不同的测量组件可供选择（取决于浓度和待测
气体的组分）
最多同时使用 6 个组件
每个组件有 2 个测量范围
自动选择测量范围（可调）
每个组件有 2 个限值
取决于应用情况和测量组件组合的测量范围

product photo of the digital analyzer solution MEAC300

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MEAC300 digital analyzer solution

Clear and cost-efficient emissions data management

值类型 5 s 值, 网格值, 日均值, 月均值, 年均值, 动态平均值,光栅货运, 日排放量, 月负荷, 年排放量, 月平均值年数> 排放限值, 日平均值年数 > 110% 排放限值, 光栅值95% 年百分位数 < 200% 排放限值, 无效日平均值的年数

product picture of the process gas analyzer TRANSIC100LP

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TRANSIC100LP

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对氧气很敏感

测量值 O2

测量范围 O2: 0 ... 5 Vol.-% / 0 ... 100 Vol.-%

环境温度 –20 °C ... +60 °C

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适用于固体、液体、浆料、颗粒及气体的光学分析

Endress+Hauser通过为实验室、过程及排放监测提供全面的原子与分子分析工具组合，为客户的长远发展做出了重大投资。我们的光学分析系统帮助客户优化关键工业流程，并更可靠地实时监测产品质量与排放。核心技术涵盖可调谐二极管激光吸收光谱（TDLAS）、荧光淬灭（QF）、拉曼光谱、近红外光谱、红外光谱、紫外/可见光谱以及原子吸收光谱等主流原位与抽取式分析技术。

优势

过程透明： 光学分析数据可清晰呈现工艺流程全貌，为优化决策提供可靠依据。
实时测量：秒级或分钟级的测量速度，助力用户有效减少停机时间，有效控制运营成本。
高质量和高可靠性：光学分析系统帮助客户优化关键工业流程，实现对产品质量的可靠监控。
非侵入、免手持测量 在线光学分析技术无需样品制备或人工操作，即可实现安全、高效、无损的测量。
高工厂可用性： 通过安装易于操作和维护的光学系统，保障生产设施持续稳定运行。
确保合规：为精准控制排放，需对气体浓度进行可靠分析与持续监测。

常见问题解答

什么是光学分析？

光学分析研究光与物质的相互作用，以实现化学成分的识别与定量分析。该技术通过观测材料对电磁辐射（特别是紫外、可见及红外波段光谱）的吸收、发射、散射或透射行为，揭示物质的内在特性。作为光谱学、成像技术与显微镜等领域的核心方法，光学分析通过解析光与物质相互作用的规律，为分子结构、成分组成及动态过程提供关键信息。要深入理解光学分析的原理，需要掌握电磁辐射的本质及其与物质相互作用的基本机制。

什么是电磁辐射？

电磁频谱涵盖了电磁辐射所有可能的频率或波长范围。电磁辐射按波长可分为无线电波、微波、红外线、可见光、紫外线、X射线和伽马射线。其特性可通过能量、波长或频率进行描述，且行为表现取决于波长。电磁辐射同时具有波动性与粒子性（波粒二象性）：静止电荷产生电场，运动电荷同时产生电场与磁场，而加速运动的电荷则会发射电磁辐射。

电磁辐射如何与物质相互作用？

电磁辐射与物质的相互作用主要包括吸收、发射和散射。相互作用的强度取决于分子偶极矩的大小，而光谱的不同区域则被用于探究分子或原子的各类特性。

什么是光谱学？

光谱学是研究电磁辐射与物质之间相互作用（包括辐射的吸收、发射或散射）的科学领域，它已成为解析原子或分子组成与结构的重要工具。

用于化学分析的光谱学技术和/或测量方法有哪些？

自2012年起，Endress+Hauser持续投资于在线与实验室光学分析、气体监测及实验室自动化技术领域，先后完成了对SpectraSensors、Kaiser Optical Systems、Analytik Jena及Blue Ocean Nova AG的收购，并与SICK AG建立了战略合作伙伴关系。在此拓展的分析业务组合中，我们提供全面的光谱学工具。我们采用光谱学——一种光学分析技术——来解析原子或分子组成，因其具备高特异性、易用性，并能深入揭示产品或过程的内部状态。化学分析中的光谱技术利用光来探测物质的成分、结构或浓度，Endress+Hauser提供的光谱技术包括：

拉曼光谱 – 通过分析散射激光检测分子振动，适用于识别化学键与分子结构。
可调谐二极管激光吸收光谱（TDLAS） – 利用特定波长激光高灵敏度测量气体浓度。
荧光淬灭（QF） – 通过检测受激分子的发光强度与衰减变化，实现氧气等分析物的痕量测量。
紫外-可见-近红外分光光度法 – 测量物质在紫外、可见及近红外波段的反射、吸收与透射特性。
红外光谱 – 通过分析红外光吸收识别官能团与分子结构。
原子发射与吸收光谱 – 通过测量原子发射或吸收的光谱线确定元素组成。

这些光学分析技术基于电磁辐射与物质的相互作用，使其成为定性与定量化学分析的有力工具。

什么是拉曼光谱？

拉曼光谱是一种强大的分子光谱技术，它通过分析化合物的振动模式，并借助光谱分析实现材料的分子指纹识别。该技术通常采用可见光或近红外激光作为电磁辐射源，通过测量光子与分子振动相互作用时产生的非弹性散射（即拉曼散射）来获取信息。与基于吸收原理的技术不同，拉曼光谱基于光的散射机制，无需固定的光程长度。它对光相互作用过程中电子云极化率的变化非常敏感，因此特别适用于测量对称键振动。与其他分子光谱技术一样，拉曼光谱可用于识别化学成分和分子结构，但其具有重要的独特优势，包括高特异性以及能够直接对水性样品进行测量。在工业过程场景中，拉曼光谱的一个显著优势是能够将定量分析模型从研发阶段无缝拓展至生产阶段，且几乎不需要针对不同规模的数据进行额外校准。

什么是紫外-可见光谱（UV/Vis）？

紫外-可见光谱（UV/Vis）是一种通过测量物质对紫外光和可见光的吸收进行分析的技术。其工作波长范围约为200–800纳米，常用于测定样品的浓度、化学结构及纯度。该分析方法因其快速、可靠的特点，被广泛应用于制药、环境检测及化学研究领域。

什么是近红外（NIR）？

近红外（NIR）指电磁波谱中波长范围约780纳米至2500纳米的区域。近红外光谱作为一种光学分析技术，广泛应用于化学成分识别、材料性质监测及无损检测。该技术无需样品预处理即可实现快速精准分析，在碳氢化合物加工、制药、农业及食品加工等行业具有重要价值。

什么是吸收光谱法？

吸收光谱法通过测量样品中原子或分子对特定波长电磁辐射的吸收情况进行分析。吸收现象源于物质对特定频率辐射的选择性捕获，由此可揭示样品的成分与浓度等重要信息。

什么是可调谐二极管激光吸收光谱（TDLAS）？

可调谐二极管激光吸收光谱（TDLAS）是红外光谱技术的一种，通过分析分子在振动跃迁过程中偶极矩变化所引起的吸收现象进行检测。该技术利用红外或近红外激光，将其调谐至待测气体特有的吸收谱线，从而实现对特定分析物的高精度浓度测量。该方法遵循朗伯-比尔定律，即光吸收量与吸收物质的性质相关。基于朗伯-比尔定律，TDLAS可通过测量特定波长下的光吸收量，实现对痕量气体的精确定量分析。

什么是荧光淬灭（QF）？

荧光淬灭（QF），亦称淬灭荧光，是一种通过测量分子荧光被氧气减弱或“淬灭”程度的光学分析技术。荧光是指分子受激后几乎立即在吸收光能后发射光辐射的现象。该方法通常以紫外（UV）或可见光作为电磁辐射源，通过激发荧光分子并检测其发射光强度，依据淬灭程度获取特定分析物（如氧气）的存在状态或浓度信息。

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拉曼光谱分析仪

拉曼光谱分析仪 - 可靠测量化学成分

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TDLAS和QF分析仪技术指南

TDLAS和QF分析仪技术指南 - 操作原理、配置和认证信息

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排放监测解决方案 PDF, 4.9 MB

一套完整的持续排放监测解决方案。我们提供面向未来的定制化技术，精准适配各工业领域的测量需求。

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Dust and particle measuring devices PDF, 4.7 MB

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