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光学分析

实验室和生产过程通用的综合光学分析系统，适合固体、液体、泥浆和气体测量

光学分析形象图
76 产品
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product picture of the process gas analyzer ENERSIC600
New warning sign 不可用
product picture of the process gas analyzer ENERSIC600 ENERSIC600 process gas analyzers
ENERSIC600 process gas analyzers
warning sign 不可用

Gas chromatograph for reliable custody transfer gas analysis – energy management included

您所在地区不可用
Measured variables Gas components, calorific value, density, Wobbe index, molar mass, compressibility
Measuring medium Natural gas, biogas, air, H2, O2, N2
Analysis time ≥45 seconds
product picture of the emission monitoring solution GM32
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  • 简易产品

  • 轻松执行仪表选型、安装和操作

仪表技术性能

选型便捷程度

  • 标准产品

  • 测量可靠、坚固耐用、低维护需求

仪表技术性能

选型便捷程度

  • 高端产品

  • 功能丰富，适用范围广

仪表技术性能

选型便捷程度

  • 定制产品

  • 专门针对严苛工况设计

仪表技术性能

选型便捷程度

特殊选型

FLEX产品选型 仪表技术性能 选型便捷程度
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Fundamental选型

完美胜任基本测量任务

仪表技术性能
选型便捷程度
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Lean选型

轻松应对关键工艺的测量挑战

仪表技术性能
选型便捷程度
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Extended选型

创新技术助力工艺流程优化

仪表技术性能
选型便捷程度
  • F
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  • E
  • X

Xpert选型

满足严苛工况的特殊测量要求

仪表技术性能
选型便捷程度

特殊选型
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product picture of the emission monitoring solution GM32 GM32
GM32

即使在防爆区域内也可直接快速检测腐蚀性气体

暂时无价格信息
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价格：提供信息
Measured variables NO, NO2, NH3, SO2
Process temperature ≤ +550 °C
Ambient temperature range –20 °C ... +55 °C
Temperature change maximum ±10 °C/h
Hazardous area approvals IECEx: Ex pzc op is [ia] IIC T3 Gc
ATEX: II 3G Ex pzc op is [ia] IIC T3 Gc
J22 TDLAS气体分析仪机柜（左视图）
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J22 TDLAS气体分析仪机柜（左视图） J22 TDLAS气体分析仪
J22 TDLAS气体分析仪

技术成熟，精准可靠测定天然气、生物甲烷 (RNG)、二氧化碳 (CCUS) 和氢气中的水分（H2O）

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测量变量 浓度
露点
采样腔室压力
采样腔室温度
防爆认证 ATEX / IECEx /UKEx，防爆1区
PESO / KCs / JPNEx，防爆1区
INMETRO，防爆1区
CNEx，防爆1区
CSA Cl. I，Div. 1
CSA Cl. I，防爆1区
JT33 H2S分析仪，为油气行业设计，样品预处理柜含视窗
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JT33 H2S分析仪，为油气行业设计，样品预处理柜含视窗 JT33 TDLAS气体分析仪
JT33 TDLAS气体分析仪

可靠的H2S测量，实现更高的产品质量、更优的过程控制和更好的资产完整性

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价格：提供信息
分析物和测量范围 H2S（硫化氢）：
0...10 ppmv
0...500 ppmv
其他量程（按需提供）
防爆认证 ATEX/IECEx/UKEx Zone 1
PESO / KTL / JPNEx Zone 1
INMETRO Zone 1
CNEx Zone 1
CSA Cl. I, Div. 1
CSA Cl. I, Zone 1
Rxn2拉曼光谱分析仪的产品图（左向正视图）
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Rxn2拉曼光谱分析仪的产品图（左向正视图） Rxn2拉曼光谱分析仪
Rxn2拉曼光谱分析仪

连接实验室分析和过程测量的桥梁

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激光波长 基础型：785 nm
标准型：532 nm、785 nm、1000 nm
混合型：785 nm
光谱范围 基础型：785 nm：300...3300 cm-1
标准型：532 nm：100...4350* cm-1
标准型：785 nm：100...3425* cm-1
标准型：1000 nm：200...2400 cm-1
混合型：785 nm：150...1890** cm-1
*波长< 150 cm-1时，低信噪比
**波长< 175 cm-1时，低信噪比
product picture of the emission monitoring solution Combiprobe CP100
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product picture of the emission monitoring solution Combiprobe CP100 Combiprobe CP100
Combiprobe CP100

粉尘，体积流量，压力和温度的组合测量

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Measured variables Dust concentration (after gravimetric comparison measurement), gas velocity, gas pressure, gas temperature
Process temperature –20 °C ... +200 °C
Process pressure –70 hPa ... 10 hPa
product picture of the digital analyzer solution Monitoring Box
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product picture of the digital analyzer solution Monitoring Box Monitoring Box
Monitoring Box

状态和应用数据的分析处理

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Supported products FLOWSIC200, GM32, MCS100FT, MCS200HW, MCS300P, MERCEM300Z, VICOTEC320, VICOTEC450, VISIC100SF, VISIC50SF, DUSTHUNTER SB100, DUSTHUNTER SP100, FLOWSIC100, MARSIC300, VICOTEC410, GMS800 (DEFOR + OXOR)
Data output Monitoring Box frontend
Alerts in the dashboard
Notifications via email
Data export (CSV)
Data integration into foreign systems (API)
Hosting Off-premise: https://monitoringbox.endress.com
Industrial PC, other solutions on request
Contract type SaaS (Software as a Service)
product picture of the particle measuring device DUSTHUNTER SP30
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product picture of the particle measuring device DUSTHUNTER SP30 DUSTHUNTER SP30
DUSTHUNTER SP30

智能测量，削减成本

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Process temperature -40 °C ... +220 °C
Measuring range Scattered light intensity: 0 ... 7.5 mg/m3 / 0 ... 3,000 mg/m3
Measuring ranges freely selectable; nine measuring ranges pre-configured (0 ... 7.5/15/45/75/150/225/375/1,000/3,000 mg/m3)
Conformities TÜV type test
Suitability tested acc. DIN EN 15267-1 (2009), DIN-EN 15267-2 (2009), DIN EN 15859 (2010), DIN EN 14181 (2014)
Certified for use as Dust monitor and Leak monitor for filter control downstream of dust collectors at installations requiring approval (13th BlmSchV, 17th BlmSchV, 27th BlmSchV, 30th BlmSchV, 44th BlmSchV and TA Luft)
product picture of the emission monitoring solution MARSIC300
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product picture of the emission monitoring solution MARSIC300 MARSIC300
MARSIC300

正确的路线保证了测量的安全性

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Measured variables CO2, SO2, NO, NO2, CO, NH3, H2O, CH4
Ambient temperature range 0 °C ... +50 °C
Type approved up to 45 °C
Conformities MARPOL Annex VI and NTC 2008 – MEPC.177(58)
Guidelines for exhaust gas cleaning systems – MEPC.340(77)
Guidelines for SCR reduction systems – MEPC.198(62)
DNV Rules for Type Approvals (2012)
IACS E10 and Rules of major classification societies
product picture of the gas analyzer MCS200HW
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product picture of the gas analyzer MCS200HW MCS200HW
MCS200HW

用于烟气监控的可靠测量技术

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Measured variables CH4, CO, CO2, Corg, HCl, H2O, NH3, NO, NO2, N2O, O2, SO2
Ambient temperature range +5 °C ... +50 °C
Process temperature ≤ +550 °C

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请尽可能详细地告诉我们您的问题和需求，这样我们就能为您定制合适的解决方案了。

光学分析

监测化学反应过程有助于提速工艺开发，提高过程效率，确保高过程安全性，保证产品质量。我们的光学分析系统技术先进，能够帮助客户及时优化关键生产工艺，可靠监测产品质量。产品组合的核心技术包括拉曼光谱分析技术、可调谐二极管激光吸收光谱技术（TDLAS）和荧光淬灭（QF）技术。

优势

  • 过程透明：采用先进的分析技术，方便用户获取过程信息。无需猜测化学反应过程，能够基于数据明智决策。
  • 实时测量：仪表24小时/7天全天候连续在线测量，实时输出过程测量值。帮助用户杜绝一切不必要的生产中断，有效控制运营成本，主动规避安全风险。
  • 高质量和高可靠性：提供高精度、可重现的测量结果，有助于严格控制质量参数，提高产品产量。我们的分析仪产品技术先进，支持IIoT工业物联网应用，方便用户快速查询数据，服务PAC/PAT过程分析技术。
  • 可扩展性： 我们的拉曼光谱分析系统采用通用技术，轻松顺利完成从实验室研发向生产制造转移扩展。方便用户快速实现无缝工厂改造扩建或产线增能。
  • 高工厂可用性：我们的分析系统满足IIoT工业物联网使用要求，安装和操作都非常简单，输出的数据有助于用户提高自动化程度，缩短生产周期，实现不间断批次生产或连续生产。

可靠H2S检测方案：JT33 TDLAS气体分析仪

可靠检测H2S，助力石油与天然气行业提升气体品质、优化工艺控制、保障设备完整性。

更多信息
拉曼光谱技术
Quality & Compliance

拉曼光谱技术 —— 先进的光学分析技术

提高工厂安全性，确保产品质量，优化生产运营。采用拉曼光谱技术实时测定样气组份和分子结构，广泛适用于从实验室至生产的各类过程应用。

JT33 H2S分析仪，用于气体测量
产品

可靠进行H2S测量：JT33 TDLAS气体分析仪

可靠的H2S测量有助于石油与天然气行业提升气体质量，改进过程控制，提高资产完整性。

三张产品图片：面板安装型J22 TDLAS分析仪，机柜，J22气体分析仪
相关主题

可调谐二极管激光吸收光谱（TDLAS）

优化提高工厂的安全性和可用性。可调谐二极管激光吸收光谱（TDLAS）技术能够快速、可靠、实时测量过程气体中的杂质浓度。

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